DIAGNÓSTICO DE PLASMA DE CÁTODO OCO: ANÁLISE DA AÇÃO DE PLASMAS DE ARGÔNIO E AR-H2 PARA A DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS EM PÓS-DESCARGA
Espectroscopia de emissão óptica; Cátodo oco; Pós-descarga; Filmes Finos.
Plasma DC cátodo oco tem sido utilizado para a deposição de filmes finos por sputtering com liberação de átomos neutros do cátodo. O Plasma DC de cátodo oco Ar-H2 atualmente utilizado pela indústria tem provado ser eficaz na e de deposição de filmes finos e limpeza de superfícies quando comparada com plasma de argônio. Para evitar os efeitos de bombardeamento de especies ativas sobre o substrato, utiliza-se a região de pós-descarga. Geraram-se descargas por plasma de argônio e hidrogênio em catodo oco para deposição de filmes finos de titânio em substrato de vidro. A espectroscopia de emissão ótica foi empregada para o diagnóstico na pós-descarga. Os filmes formados foram analisados através da técnica de perfilometria mecânica. Observou-se que no espectro das linhas de argônio ocorreu excitação de espécies. Verificaram-se variações para a taxa de deposição do titânio sobre o substrato de vidro para diferentes parâmetros do processo como: tempo de deposição, distância da descarga e gases de trabalho. Contatou-se um aumento da intensidade das linhas de argônio quando comparadas com as linhas de titânio. Para deposição com Argônio e hidrogênio em amostra de vidro observou uma maior taxa deposição de titânio quanto mais próxima a amostra se encontrava da descarga.