Banca de QUALIFICAÇÃO: ÁLVARO ALBUENO DA SILVA LINHARES

Uma banca de QUALIFICAÇÃO de MESTRADO foi cadastrada pelo programa.
DISCENTE : ÁLVARO ALBUENO DA SILVA LINHARES
DATA : 10/07/2024
HORA: 10:00
LOCAL: Google meet
TÍTULO:

OBTENÇÃO E ESTUDO DO COMPORTAMENTO DOS FILMES FINOS MULTICAMADAS TiSiN/TiSiC DEPOSITADOS EM AÇO AISI 4340 USANDO A TÉCNICA DE DEPOSIÇÃO POR PLASMA EM CILINDROS CATÓDICOS

PALAVRAS-CHAVES:

Multicamadas, TiSiN/TiSiC, Cilindros Catódicos, Propriedades Mecânicas, Comportamento Tribológico.

PÁGINAS: 72
RESUMO:

Filmes finos são camadas de material depositadas para melhorar as propriedades do substrato, como resistência mecânica, tribológica e corrosão. A técnica de tratamento por plasma em cilindros catódicos (CCyPD) é uma abordagem inovadora na formação de filmes finos. No entanto, existem poucos estudos sobre essa técnica, o que torna esse campo de pesquisa promissor. Além disso, até o momento não há literatura disponível sobre a aplicação de multicamadas de filmes finos pela técnica CCyPD, sendo importante destacar que este é o primeiro estudo realizado. Nesse sentido, o objetivo deste estudo foi obter e caracterizar
filmes finos de multicamadas TiSiN/TiSiC depositados no substrato de aço AISI 4340 por meio do método CCyPD, avaliando as propriedades mecânicas e tribológicas dos filmes multicamadas resultantes. O estudo utilizou o aço AISI 4340 como substrato e cilindros produzidos a partir de pós de titânio (Ti) e silício (Si). Para depositar os revestimentos multicamadas de TiSiN/TiSiC foi aplicada a técnica CCyPD. O tratamento a plasma foi realizado mantendo o potencial fixo e variando o tempo, a temperatura e a proporção dos gases por camada depositada. Após o tratamento, as amostras foram caracterizadas por: Difração de Raios-X (DRX) com incidência rasante, espectroscopia Raman, Microscopia Eletrônica de Varredura com Emissão de Campo (MEV-FEG) com Espectroscopia por Dispersão de Energia (EDS), ensaio de microdureza e tribológico (coeficiente de atrito e volume de desgaste) e análise de perfilometria (rugosidade superficial). Os resultados revelaram a obtenção de camadas dos filmes depositados com as fases presentes dos compostos das multicamadas, bem como as bandas vibracionais. O MEV-FEG mostraram que o revestimento é composto por camadas alternadas de TiSiN/TiSiC, com aderência ao substrato. A análise de EDS revelou a composição elementar das multicamadas, com a presença de Ti, Si, N e C. Em termos de propriedades mecânicas, os valores de dureza
indicaram um aumento significativo superficial das amostras revestidas, em comparação com a amostra sem revestimento. O comportamento tribológico demonstrou que os filmes multicamadas apresentaram baixos coeficientes de atrito, e uma redução no volume de desgaste em comparação com o substrato não revestido. Conclui-se que a técnica CCyPD se mostrou eficiente para depositar filmes finos de multicamadas TiSiN/TiSiC no substrato de aço AISI 4340. Os resultados indicaram que as multicamadas apresentaram elevada dureza,
baixo coeficiente de atrito e resistência ao desgaste superior ao substrato sem revestimento. Portanto, isso demonstra a efetividade do emprego da técnica na deposição dos filmes finos multicamadas de TiSiN/TiSiC, o que impacta diretamente na engenharia de superfícies e no desenvolvimento de revestimentos de alto desempenho.

MEMBROS DA BANCA:
Interna - 2614285 - KESIA KARINA DE OLIVEIRA SOUTO SILVA
Interna - 2614274 - MICHELLE CEQUEIRA FEITOR
Interno - 2550377 - THERCIO HENRIQUE DE CARVALHO COSTA
Externo à Instituição - IGOR OLIVEIRA NASCIMENTO - NENHUMA