Banca de DEFESA: IGOR OLIVEIRA NASCIMENTO

Uma banca de DEFESA de MESTRADO foi cadastrada pelo programa.
DISCENTE: IGOR OLIVEIRA NASCIMENTO
DATA: 09/12/2011
HORA: 14:00
LOCAL: A definir
TÍTULO:

Construção de um aparato experimental para monitoramento in situ da deposição de filmes finos de titânio por magnetron sputtering. 


PALAVRAS-CHAVES:

Filmes Finos, Magnetron Sputtering e Espectroscopia de Emissão Óptica.


PÁGINAS: 91
GRANDE ÁREA: Engenharias
ÁREA: Engenharia de Materiais e Metalúrgica
RESUMO:

A técnica de revestimento superficial utilizando magnetron sputtering é uma das mais utilizadas pela engenharia de superfície, pela sua versatilidade na obtenção de diferentes filmes bem como no controle micro/nanométrico de sua espessura. Dentre os vários parâmetros do processo, aqueles relacionados com as espécies ativas do plasma são de fundamental importância no mecanismo e cinética da deposição. Com o objetivo de identificar as espécies ativas do plasma, parâmetros como fluxo de gás, pressão de trabalho e densidade de potencia elétrica foram variados durante revestimento de titânio em substrato de vidro. Foi utilizado argônio em fluxos de 10; 20; 30; 40 e 50 sccm (centímetro cúbico por minuto) e para cada fluxo de gás uma varredura sequencial da corrente elétrica de 0,10; 0,20; 0,30; 0,40; 0,50A (ampères). O valor de máximo de 0,50 A foi escolhido com base em dados da literatura e limitações do equipamento. O monitoramento das espécies do plasma presentes durante a deposição foi realizado in situ, pela técnica de espectroscopia de emissão óptica (EEO) através do espectrômetro USB2000 Series da Ocean Optics.  Para isso um aparato foi desenvolvido para adaptar o EEO dentro do reator de plasma de maneira que ficasse posicionado o mais próximo possível do alvo. A radiação emitida pelas espécies era detectada através de uma fibra óptica colocada por trás do substrato de vidro e suas intensidades, em função do comprimento de onda, exibidas na tela de um monitor.  O tempo de aquisição para cada condição foi aquele em que a intensidade era nula devido o filme formado no substrato. As intensidades de diferentes linhas de emissão do argônio e titânio foram então analisadas em função do tempo, para determinar as espécies ativas e estimar a espessura dos filmes depositados.  Apos a deposição, os filmes finos que revestiram os vidros foram caracterizados por transmitância óptica, através de um laser no infravermelho. Verificou-se que os valores da espessura e da taxa de deposição é determinada pela análise in situ foram coerentes com os resultados obtidos através da transmitância por laser


MEMBROS DA BANCA:
Externo à Instituição - BOGOS NUBAR SISMANOGLU - ITA
Presidente - 347652 - CLODOMIRO ALVES JUNIOR
Externo ao Programa - 1714946 - KASSIO MICHELL GOMES DE LIMA
Notícia cadastrada em: 28/11/2011 08:29
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