Banca de DEFESA: IGOR OLIVEIRA NASCIMENTO

Uma banca de DEFESA de DOUTORADO foi cadastrada pelo programa.
DISCENTE : IGOR OLIVEIRA NASCIMENTO
DATA : 23/06/2017
HORA: 14:00
LOCAL: Sala 94 do Centro de Tecnologia - CT/UFRN
TÍTULO:

CARACTERIZAÇÃO DO EFEITO DA CORRENTE E TEMPERATURA NA ESTEQUIOMETRIA DOS FILMES FINOS DE TiN DEPOSITADOS POR GAIOLA CATÓDICA E MAGNETRON SPUTTERING

PALAVRAS-CHAVES:

Gaiola Catódica, Magnetron Sputtering, Filmes Finos de TiN, Deposição por plasma.

PÁGINAS: 131
RESUMO:

Filmes finos de nitreto de titânio foram depositados em superfícies de silício e de vidro, utilizando as técnicas de deposição descarga em gaiola catódica e magnetron sputtering, a fim de verificar a influência da corrente e da temperatura na taxa de deposição e nas propriedades estruturais dos filmes finos. As deposições por gaiola catódica foram realizadas nas configurações gaiola alta, gaiola baixa e a inovação da técnica que é a gaiola dupla, em atmosfera gasosa de 75% de hidrogênio e 25% de nitrogênio, as temperaturas de 300°C e 350°C, com tempos de deposições de 2 e 4 horas. As deposições realizadas com o magnetron sputtering teve atmosfera gasosa de 75% de argônio e 25% de nitrogênio, com as correntes de 0,40 A e 0,50 A, nos tempos de deposições de 2 e 4 horas. Na caracterização dos filmes finos de nitreto de titânio, utilizou-se a espectroscopia Rama (RAMAN) forneceu a medida direta das energias dos nodos da primeira ordem dos átomos constituintes dos filmes finos, os espectros mostraram interdifusividade atômica que comprovaram a formação de nitreto de titânio e que permitiu o cálculo da razão da concentração N/Ti; As análises de difração de raios-X (DRX) comprovaram que os filmes finos obtidos são compostos por TiN, apresentando variações nos planos cristalinos que indica a não existência de um plano preferencial para o crescimento dos filmes; A espectroscopia de energia dispersão (EDS) analisou quantitativamente a composição dos filmes finos de nitreto de titânio; A microscopia eletrônica de varredura (MEV) mostrou a estrutura dos filmes finos de nitreto de titânio e foi possível calcular as espessuras dos mesmos; e a microscopia de força atômica (AFM) mostrou algumas características microestruturais como a diferença entre picos e vales da topografia dos filmes finos de nitreto de titânio. De maneira geral, os finos de nitreto de titânio depositados por gaiola catódica apresentam menor cristalinidade devido à baixa quantidades de nitrogênio e quanto maior a temperatura maior será a espessura do filme fino. Já para os filmes finos depositados por magnetron sputtering apresentam crescimento na espessura como aumento da corrente e são mais estequiométricos.

MEMBROS DA BANCA:
Externo à Instituição - EDALMY OLIVEIRA DE ALMEIDA - UERN
Externo à Instituição - ERALDO CÂMARA DE SOUZA - IFRN
Interno - 2614274 - MICHELLE CEQUEIRA FEITOR
Externo à Instituição - ROMULO RIBEIRO MAGALHAES DE SOUSA - UFPI
Presidente - 2550377 - THERCIO HENRIQUE DE CARVALHO COSTA