Banca de DEFESA: FELIPE FERNANDES NETO

Uma banca de DEFESA de MESTRADO foi cadastrada pelo programa.
DISCENTE : FELIPE FERNANDES NETO
DATA : 30/10/2023
HORA: 13:00
LOCAL: google meets
TÍTULO:

Análise dos parâmetros de deposição e nanotribológica de dois líquidos iônicos em um substrato de silício


PALAVRAS-CHAVES:

Líquidos iônicos, MEMS/NEMS, AFM, Filme fino, Lubrificação


PÁGINAS: 105
RESUMO:

Dois Líquidos Iônicos (LI) à base de fósforo foram depositados em um substrato de silício <111> via dip coating. Estes LI’s, trihexyltetradecylphosphonium bis(2,4,4-trimethylpentyl)phosphinate e tetrabutylphosphonium methanesulfonate, são dois possíveis candidatos para a lubrificação dos dispositivos micro/nanoeletromecânicos (MEMS/NEMS). Para avaliar isto, foram estudadas as suas capacidades de formar um filme adsorvido fino (1 a 100nm) na superfície do silício. Foram realizadas variações nos parâmetros de deposição como limpeza do substrato, diferentes concentrações e velocidade de deposição. A superfície foi analisada por meio de microscopia óptica, com o auxílio do microscópio de força atômica (AFM). Como resultado, foi possível observar a topografia, a variação da força atrito em função da carga normal aplicada e a força de adesão entre a ponta e o filme. Além disso, a espectroscopia raman confocal (laser de 532 nm e potência de 7,2 mW), foi utilizada para observar a presença de líquido iônico em regiões especificas de interesse. Por meio dessas ferramentas, foi possível observar um comportamento distinto no coeficiente de atrito e no mecanismo de formação do filme na superfície entre os dois lubrificantes, o qual pode ser atribuído ao fato da diferença do tamanho da cadeia do cátion e consequentemente da sua força de adesão.


MEMBROS DA BANCA:
Presidente - 1481705 - SALETE MARTINS ALVES
Externo à Instituição - DANTE FERREIRA FRANCESCHINI FILHO - UFF
Externo à Instituição - RODRIGO PRIOLI MENEZES - PUC - RJ
Notícia cadastrada em: 19/10/2023 07:15
SIGAA | Superintendência de Tecnologia da Informação - (84) 3342 2210 | Copyright © 2006-2024 - UFRN - sigaa04-producao.info.ufrn.br.sigaa04-producao