Banca de DEFESA: MARCIO WILLIANS DUARTE MENDES - (Retificação)

Uma banca de DEFESA de DOUTORADO foi cadastrada pelo programa.

DISCENTE: MARCIO WILLIANS DUARTE MENDES

DATA: 17/09/2010

HORA: 14:00

LOCAL: Auditório do CCET

TÍTULO:

Revestimentos a base de Ta/Al2O3 produzidos por aspersão térmica sobre substrato metálico 


PALAVRAS-CHAVES:

Aspersão térmica, tocha de plasma, revestimento Ta/Al2O3, partículas nanométricas, redução aluminotérmica


PÁGINAS: 144

GRANDE ÁREA: Engenharias

ÁREA: Engenharia de Materiais e Metalúrgica

RESUMO:

Substratos metálicos foram revestidos por aspersão térmica em tocha de plasma, eles foram posicionados a uma distância de 4 e 5 cm em relação ao bocal de saída do jato de plasma. Os materiais de partida utilizados para as deposições foram pós de óxido de tântalo e alumínio. Esses dois pós foram misturados e moídos em moinho de alta energia, em seguida, imersos na tocha para produção de revestimento de alumina impregnada com partículas de tântalo com tamanho nano e micrométricos. O equipamento de aspersão utilizado é uma tocha de plasma de arco não transferido que opera na faixa de 250 A e 30 V. Ao atingirem o jato de plasma, os pós da mistura aquecem até a temperatura de ignição da reação aluminotérmica. O calor gerado fornece energia suficiente para a fusão do produto da reação. Esse produto fundido ao chocar-se na superfície do substrato forma um revestimento composto por uma junção metal – cerâmica (Ta + Al2O3). A identificação das fases e sua quantificação foram obtidas respectivamente por difração de raios–X e pelo método de Rietveld. Para determinação da morfologia e composição das partículas foram utilizados microscopia eletrônica de varredura e análise química por espectroscopia de energia dispersiva – EDS, respectivamente. Também foram executadas medidas de rugosidades no substrato, medições de microdureza Vickers nas aspersões e determinação da temperatura eletrônica do jato de plasma por espectroscopia de emissão ótica – EEO. Os resultados obtidos confirmaram a expectativa gerada em torno do produto final da aspersão da mistura Ta2O5 + Al, tanto na formação de partículas nanométricas de tântalo quanto no formato final delas. A temperatura de excitação dos elétrons apresentou valores consistentes com o propósito do trabalho, além disso, a temperatura termodinâmica mostrou-se eficiente para o processo de redução do Ta2O5


MEMBROS DA BANCA:
Presidente - 347652 - CLODOMIRO ALVES JUNIOR
Externo ao Programa - 2613355 - FRANCINE ALVES DA COSTA
Externo à Instituição - JOSE DE ANCHIETA LIMA - IFRN
Externo à Instituição - THEOFILO MOURA MACIEL - UFCG
Interno - 345842 - UILAME UMBELINO GOMES
Notícia cadastrada em: 16/09/2010 13:09
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