Influência dos parâmetros de processo durante a deposição de nitreto de titânio por descarga em gaiola catódica
Gaiola Catódica, Filmes finos, Nitreto de Titânio, Espectroscopia de Emissão Óptica.
Filmes de nitreto de titânio foram depositados utilizando a técnica de deposição por descarga em gaiola catódica. O processo de deposição foi monitorado por OES para investigação da influência das espécies ativas no plasma, observou-se que com o aumento fluxo de H2 a intensidade das espécies luminescentes no plasma sofre alteração. Para realização das deposições foi escolhido o ponto no qual o pico referente à espécie N2+ (391,4 nm) não teve um crescimento linear com o aumento do fluxo de H2, bem como o ponto anterior e o subseqüente a este. Logo, foram utilizadas três atmosferas distintas de plasma composta pelos seguintes fluxos de gases em sccm: 4Ar-3N2-0H2; 4Ar-3N2-1H2; 4Ar-3N2-2H2 e 8 configurações de gaiolas catódicas, alterando o diâmetro do furo e o número de furos na tampa e na gaiola, a fim estudar a influência das variáveis de processo durante a deposição do filme de nitreto de titânio. Os filmes obtidos foram caracterizados por GIXRD, MEV, EDS, microscopia óptica e por espectrofotometria. A análise por GIXRD comprovou que os filmes obtidos são compostos por TiN, podendo ter variações quanto a quantidade de nitrogênio na rede e o tamanho de cristalito, observado pela largura a meia altura do pico; as imagens obtidas por MEV e microscopia óptica forneceram dados sobre a homogeneidade e espessura dos filmes. As propriedades ópticas como absorbância e transmitância são bastante sensíveis a alterações na rede cristalina do material, composição química e espessura, sendo, portanto, uma boa ferramenta para verificação do controle de processo. Em um aspecto geral, os filmes obtidos com fluxo de 4Ar-3N2-0H2 possuem uma menor transmitância atribuída ao menor tamanho de cristalito bem como a maior quantidade de nitrogênio na rede cristalina do TiN. Os filmes obtidos em 4Ar-3N2-1H2 e 4Ar-3N2-2H2 tiveram um aspecto dourado e o difratograma apresentou picos característicos do TiN com menor largura a meia altura, sugerindo que com a presença de hidrogênio na atmosfera do plasma os filmes são mais estequiométricos e com maior cristalinidade. Quanto à configuração da gaiola observou-se que com maior quantidade de furos na tampa, maior a proximidade da tampa com a amostra e menor o diâmetro do furo maior a espessura do filme obtido, o que é justificado pela maior probabilidade das espécies do plasma atingir efetivamente a amostra e promoverem o crescimento do filme, pelo ao aumento do livre caminho médio e do número de cátodos ocos presentes na gaiola.