CARACTERIZAÇÃO DAS PROPRIEDADES DE FILMES FINOS DE TiN DEPOSITADOS POR MAGNETRON SPUTTERING E GAIOLA CATÓDICA E O EFEITO DA CORRENTE E TEMPERATURA DE TRATAMENTO NA ESTEQUIOMETRIA DOS FILMES FINOS
Gaiola Catódica, Magnetron Sputtering, Filmes Finos de TiN, Deposição por plasma.
Filmes finos de nitreto de titânio foram crescidos em silício e vidro utilizando as técnicas de deposição Gaiolas Catódica baixa, alta, dupla e por Magnetron Sputtering afim de averiguar a influência das variáveis de processo de deposição na espessura e nas propriedades estruturais dos filmes finos. Os tratamentos das amostras foram realizados com o auxílio de gaiolas de titânio para temperaturas 300 °C e 350 °C para as gaiolas catódicas e correntes de 0,40 A e 0,50 A para deposições com Magnetron Sputtering ambas com tempo de tratamento de 2h e 4h com uma atmosfera gasosa de 75% de Hidrogênio e 25% de Nitrogênio para Gaiolas Catódicas e 75% de Argônio e 25% de Nitrogênio para o Magnetron Sputtering. Para a caracterização dos filmes, fez-se uso da espectroscopia Raman para obter-se a estequiometria da razão da concentração N/Ti., da espectroscopia de energia dispersiva (EDS), que analisou quantitativamente a composição dos filmes finos, a microscopia eletrônica de varredura (MEV) forneceu dados sobre a homogeneidade e espessura dos filmes, da difração de raios X (DRX) comprovaram que os filmes obtidos são compostos por TiN, podendo ter variações quanto a quantidade de nitrogênio na rede e o tamanho de cristalito e a microscopia de força atômica (AFM) observou-se algumas características microestruturais do filme e a rugosidade. As análises dos resultados confirmaram a formação de filme fino de nitreto de titânio para todas as condições de tratamento.